![]() 偏光板的製造方法
专利摘要:
本發明係一種偏光板的製造方法,係在偏光膜之單面或兩面貼合透明膜而成之偏光板的製造方法,其依序具備下述步驟:在透明膜之單面、或偏光膜之單面或兩面上,以活性能量線硬化型之接著劑塗布的接著劑塗布步驟;對透明膜介由前述接著劑積層在偏光膜之單面或兩面而成之積層體施加壓力,藉此使透明膜與偏光膜貼合之貼合步驟;及在使積層體與朝運送方向旋轉之滾輪成密接之狀態下予以運送之間,在積層體上照射活性能量線使前述接著劑硬化之第1活性能量線照射步驟,其中,上述滾輪的表面粗糙度之最大高度Ry為0.4至12S。 公开号:TW201323944A 申请号:TW101138590 申请日:2012-10-19 公开日:2013-06-16 发明作者:Jun Furukawa;Azusa Hiroiwa 申请人:Sumitomo Chemical Co; IPC主号:G02B5-00
专利说明:
偏光板的製造方法 本發明係關於一種作為構成液晶顯示裝置等之光學零件之一者使用的偏光板之製造方法。 偏光膜,係廣泛地使用聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素者,已知有以碘作為二色性色素之碘系偏光膜、及二色性直接染料作為二色性色素之染料系偏光膜等。此等偏光膜,一般係在其單面或兩面上介由接著劑與三乙醯纖維素膜等透明膜貼合而成為偏光板。 在偏光膜之單面或兩面以透明膜積層之方法,係有預先在透明膜之表面以活性能量線硬化型樹脂塗布後,將偏光膜及透明膜以一對軋輥(貼合滾輪)壓夾而使其貼合,其次再以活性能量線照射使其接著而硬化之方法(專利文獻1:日本特開2004-245925號公報、專利文獻2:日本特開2009-134190號公報、專利文獻3:日本特開2011-95560號公報)。 惟如此操作所製造之偏光板,卻有活性能量線硬化型樹脂之硬化並不適當、及偏光板之全體發生如波浪之波捲等而捲曲的情形。在偏光板上發生波捲時,不惟使其外觀不良,同時貼著在液晶胞時亦易於在接著面上留下氣泡而降低其作業性,成為液晶顯示裝置中其顯示品質降低的原因。 專利文獻3中所載,係在以活性能量線照射使活性能量線硬化型樹脂硬化時,使積層體在滾輪之外周面上密接且同時使其硬化,而可抑制波捲等之發生。 (先前技術文獻) 專利文獻 專利文獻1:日本特開2004-245925號公報 專利文獻2:日本特開2009-134190號公報 專利文獻3:日本特開2011-95560號公報 使積層體與滾輪之外周面密接之狀態下藉由以活性能量線照射使活性能量線硬化型樹脂硬化之步驟中,在硬化後所得到之積層體(以下亦有稱為偏光板的情形。)的表面,會有發生如波浪之外觀不良(以下,該狀態稱為「波浪板狀起伏」)的情形。此種表面不良,如同波浪般,會因偏光板的外觀不良,成為液晶顯示裝置之品質降低之原因。本發明之目的係提供一種可在偏光板的表面防止波浪板狀起伏的發生之偏光板的製造方法。 本發明人等,對活性能量線照射步驟中所發生之偏光板表面不良的原因專心致志加以檢討之結果,得知藉由調整活性能量線照射步驟中所使用之滾輪的表面粗糙度,即可抑制偏光板表面所發生之波浪板狀起伏。 本發明,根據上述知識而得,係一種在偏光膜之單面或兩面貼合透明膜所構成之偏光板的製造方法;其依序具備下述步驟:在透明膜之單面塗布活性能量線硬化型之接著劑的接著劑塗布步驟;對透明膜介由前述接著劑積層在偏光膜之單面或兩面而成之積層體施加壓力,藉此使透明膜與偏光膜貼合之貼合步驟;及在使積層體與朝運送方向旋轉之滾輪成密接之狀態下予以運送之間,在積層體上照射活性能量線而使前述接著劑硬化之第1活性能量線照射步驟,其中,上述滾輪的表面粗糙度之最大高度Ry為0.4至12S。上述滾輪較宜係冷卻滾輪。 以本發明之偏光板的製造方法,即可抑制偏光板表面發生如波動的波浪板狀起伏。因此,以本發明之製造方法所得之偏光板,可顯示高品質之圖像。 1‧‧‧偏光膜 2、3‧‧‧透明膜 4‧‧‧積層體(偏光板) 11、12‧‧‧接著劑塗布裝置 13‧‧‧滾輪(冷卻滾輪) 16、17、18、31、32‧‧‧活性能量線照射裝置 19‧‧‧運送用軋輥 20‧‧‧捲繞滾輪 51、52‧‧‧貼合滾輪 第1圖係表示本發明之偏光板的製造裝置之一實施形態的概略側面圖。 本發明,係在偏光膜之單面或兩面貼合透明膜而成之偏光板的製造方法,其依序具備下述步驟:在透明膜之單面,塗布活性能量線硬化型之接著劑的接著劑塗布步驟;對透明膜介由接著劑積層在偏光膜之單面或兩面而成之積層體施加壓力,藉此使透明膜與偏光膜貼合之貼合步驟;及在使積層體與朝運送方向旋轉之滾輪成密接之狀態下予以運送之間,在積層體上照射活性能量線而使前述接著劑硬化之第1活性能量線照射步驟。第1活性能量線照射步驟中使用之滾輪的表面粗糙度之最大高度Ry為0.4至12S。 首先,對本發明之製造方法中所使用之各要件詳細說明。 (偏光膜) 本發明之偏光板的製造方法中所使用之偏光膜,具體言之,係以單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素者。聚乙烯醇系樹脂,可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂之例,除了乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外,其它,可舉如:乙酸乙烯酯與可與其共聚之其它單體之共聚物(如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物)等。可與乙酸乙烯酯共聚之其它單體,其它可舉如:不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、含銨基之丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂之皂化度,以85莫耳%以上為佳,90莫耳%以上更佳,98至100莫耳%又更佳。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度,一般為1000至10000,以1500至5000為佳。此等聚乙烯醇系樹脂,亦可再經過變性,例如由醛類變性之聚乙烯甲醛、聚乙烯乙醛、聚乙烯丁醛等均可使用。 以該聚乙烯醇系樹脂製膜者,係再作為偏光膜之胚膜(original film)使用。以聚乙烯醇系樹脂製膜之方法,並無特別限定,可以已往習知之適當方法製膜。包含聚乙烯醇系樹脂之胚膜的膜厚並無特別限定,可為如10至150μm左右。一般,此係以輪狀供給,厚度係在20至100μm之範圍內,以30至80μm之範圍內為佳,另外,工業上實際應用的寬度係在1500至6000mm之範圍內。 市售之聚乙烯醇系膜(Vinylon VF-PS#7500,日本Kuraray公司製造/OPL膜M-7500,日本合成公司製造)之胚膜厚度為75μm,(Vinylon VF-PS#6000,日本Kuraray公司製造、Vinylon VF-PE#6000,日本Kuraray公司製造)之胚膜厚度為60μm等。 偏光膜,一般係經過:聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色使吸附二色性色素之步驟(染色處理步驟)、經吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜再以硼酸水溶液處理之步驟(硼酸處理步驟)、以及經由該硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟(水洗處理步驟),進行製造。 同時,在偏光膜之製造中,一般上,聚乙烯醇系樹脂膜係以單軸延伸,而該單軸延伸可在染色處理步驟之前進行,亦可在染色處理步驟中進行,或在染色處理步驟後進行。單軸延伸在染色處理步驟之後進行時,該單軸延伸,可在硼酸處理步驟之前進行,亦可在硼酸處理步驟中進行。當然,此等複數之階段中亦可進行單軸延伸。 單軸延伸,能以在轉速不同之滾輪間作單軸延伸之方式進行,亦能以使用熱滾輪作單軸延伸之方式進行。此外,可為在大氣中進行延伸之乾式延伸操作,亦可為在溶劑中使其膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸之倍率,一般為3至8倍左右。 染色處理步驟中之聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色,例如可將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含二色性色素之水溶液中進行。二色性色素係可使用如碘、二色性染料等。二色性染料,包括:如C.I.DIRECT RED 39等雙偶氮化合物所構成之二色性直接染料、如三唑、四唑等化合物所構成之二色性直接染料。又,聚乙烯醇系樹脂膜,在染色處理前以先經過水的浸漬處理者為佳。 二色性色素係使用碘時,一般係採用在含碘及碘化鉀之水溶液中,浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。該水溶液中的碘含量,一般係每100重量份之水,以0.01至1重量份為佳;碘化鉀之含量,一般係每100重量份之水,以0.5至20重量份為佳。二色性色素在使用碘時,染色中使用的水溶液之溫度,一般為20至40℃,在此類水溶液之浸漬時間(染色時間),一般為20至1800秒。 另一方面,二色性色素係使用二色性染料時,一般上,係採用在含二色性染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。該水溶液中的二色性染料之含量,一般係每100重量份之水為1×10-4至10重量份,以1×10-3至1重量份為佳,特別以1×10-3至1×10-2重量份更佳。該水溶液,亦可再含硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。二色性色素係使用二色性染料時,染色所使用之染料水溶液的溫度,一般為20至80℃,又,在該水溶液中的浸漬時間(染色時間),一般為10至1800秒。 硼酸處理步驟,係將二色性色素所染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含硼酸之水溶液中而進行。含硼酸之水溶液中的硼酸量,係每100重量份之水,一般為2至15重量份,以5至12重量份為佳。在上述染色處理步驟中之二色性色素係使用碘時,該硼酸處理步驟中所使用的含硼酸之水溶液又以含碘化鉀為佳。此時,含硼酸之水溶液中的碘化鉀之量,係每100重量份之水,一般為0.1至15重量份,以5至12重量份為佳。在含硼酸之水溶液中之浸漬時間,一般為60至1200秒為佳,以150至600秒為佳,200至400秒更佳。含硼酸之水溶液溫度,一般為40℃以上,以50至85℃為佳,以55至75℃更佳。 接著之水洗處理步驟,係將上述硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜,以如在水中浸漬進行水洗處理。水洗處理中之水的溫度,一般在4至40℃,浸漬時間,一般為1至120秒。水洗處理後,一般再進行乾燥處理,即可得偏光膜。乾燥處理,可適當地使用如熱風乾燥機、遠紅外線加熱機等而進行。乾燥處理之溫度一般為30至100℃,以50至80℃為佳。乾燥處理之時間,一般為60至600秒,以120至600秒為佳。 如此操作之聚乙烯醇系樹脂膜,在進行單軸延伸、二色性色素染色、硼酸處理及水洗處理之後,即可得到偏光膜。該偏光膜之厚度,一般係在5至50μm之範圍內。 (透明膜) 本發明中,係於上述偏光膜之單面或兩面以透明膜貼合。透明膜的構成材料,可舉如:環烯烴系樹脂、乙酸纖維素系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚丙烯等,該領域中已往以來所廣泛使用之膜材料。在偏光膜之兩面以透明膜貼合時,各個透明膜可為相同者,亦可為不同種類之膜。 環烯烴系樹脂之例,係具有包含如原冰片烯、多環原冰片烯系單體之環狀烯烴(環烯烴)之單體單元的熱塑性樹脂(亦稱為熱塑性環烯烴系樹脂)。環烯烴系樹脂,可為上述環烯烴之開環聚合物或使用2種以上之環烯烴的開環共聚物之氫化物,環烯烴與鏈狀烯烴、具有乙烯基之芳族化合物等之加成聚合物。此外,導入有極性基者亦為有效。 在使用環烯烴與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基之芳族化合物的共聚物時,其鏈狀烯烴之例可舉如:乙烯、丙烯等;具有乙烯基之芳族化合物之例可舉如:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。此類共聚物中,包含環烯烴之單體單位可在50莫耳%以下(以15至50莫耳%較佳)。特別是,在使用環烯烴與鏈狀烯烴及具有乙烯基之芳族化合物的三元共聚物時,包含環烯烴之單體單位,可為如上述較少之量。該三元共聚物中,包含鏈狀烯烴之單體單位,一般為5至80莫耳%,包含具有乙烯基之芳族化合物之單體單位,一般為5至80莫耳%。 環烯烴系樹脂,可使用適當之市售品,如:Topas(Ticona公司製造)、ARTON(JSR公司製造)、ZEONOR(日本Zeon公司製造)、ZEONEX(日本Zeon公司製造)、APEL(三井化學公司製造)、OXIS(大倉工業公司製造)等。在以此類環烯烴系樹脂製成膜時,溶劑澆鑄法、熔融壓出法等一般習知之方法均適於使用。此外,亦可使用如:S-SINA(積水化學工業公司製造)、SCA 40(積水化學工業公司製造)、ZEONOR Film(Zeon公司製造)等預先成膜之環烯烴系樹脂製之膜的市售品。 環烯烴系樹脂膜,可為經單軸延伸或二軸延伸者。藉由延伸,可賦予環烯烴系樹脂任意之相位差值。延伸,一般上,係在膜滾輪捲出之同時連續地進行,可在加熱爐中,向滾輪之進行方向(膜之長度方向)、與其進行方向垂直之方向(膜之寬度方向)、或向其兩方延伸。加熱爐之溫度,一般係採用環烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度附近至玻璃轉移溫度+100℃之範圍。延伸倍率一般為1.1至6倍,以1.1至3.5倍為佳。 環烯烴系樹脂膜,在滾輪捲繞的狀態時,會有膜之間接著而易於發生結塊之傾向,因此一般上,係在保護膜貼合後再進行捲繞。此外,環烯烴系樹脂膜,一般上其表面活性不佳,因此與偏光膜接著之表面,以進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等之表面處理者為佳。其中,以較容易實施之電漿處理,特別是在大氣壓下之電漿處理、電暈處理較為適當。 乙酸纖維素系樹脂,係纖維素之部分或完全酯化物,其例可列舉如包含:纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、此等之混合酯等之膜。更具體地可舉如:三乙醯纖維素膜、二乙醯纖維素膜、纖維素乙酸酯丙酸酯膜、纖維素乙酸酯丁酸酯膜等。此類纖維素酯系樹脂膜,可使用適當之市售品,如:FUJITAC TD80(富士軟片公司製造)、FUJITAC TD80UF(富士軟片公司製造)、FUJITAC TD80UZ(富士軟片公司製造)、KC8UX2M(Konica-Minolta Opto公司製造)、KC8UY(Konica-Minolta Opto公司製造)、FUJITACTD60UL(富士軟片公司製造)、KC2UAW(Konica-Minolta Opto公司製造)、KC4UYW(Konica-Minolta Opto公司製造)、KC6UAW(Konica-Minolta Opto公司製造)等。 同時,透明膜方面,帶有相位差特性之乙酸纖維素系樹脂膜亦適於使用。該帶有相位差特性之乙酸纖維素系樹脂膜的市售品,可舉如:WV BZ 438(富士軟片公司製造)、KC4FR-1(Konica-Minolta Opto公司製造)、KC4CR-1(Konica-Minolta Opto公司製造)、KC4AR-1(Konica-Minolta Opto公司製造)等。乙酸纖維素,亦稱為乙醯纖維素,也稱為纖維素乙酸酯。 此類乙酸纖維素系樹脂膜吸水容易,因此亦有偏光板之水分率影響偏光板之末端鬆弛之情形。因此偏光板製造時之水分率,以與偏光板的保管環境,如無塵室之製造線及捲繞保管倉庫中之平衡水分率越接近越佳,雖因積層膜之構成而定,然以例如2.0至3.5%左右為佳,以2.5%至3.0%左右更佳。該偏光板之水分率的數值係以乾燥重量法測定者,即其在105℃/120分鐘後之重量變化。 本發明之偏光板的製造方法中所使用之透明膜的厚度,係以薄者為佳,惟過薄時將使強度降低,加工性變差。另一方面,過厚時將有透明性降低、或積層後必要之固化時間延長等之問題。因此,透明膜知適當厚度,例如為5至200μm,以10至150μm為佳,10至100μm更佳。 為使接著劑與偏光膜及/或透明膜之接著性提高,在偏光膜及/或透明膜上,亦可再施以電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射處理、底膜塗布處理、皂化處理等表面處理。 同時,透明膜上,亦可再以防眩處理、抗反射處理、硬化膜處理、抗靜電處理、防污處理等之表面處理,各自單獨,或以2種以上組合施行。同時,透明膜及/或透明膜表面保護層,亦可含:二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物等紫外線吸收劑;及磷酸苯酯系化合物、苯二甲酸酯化合物等之塑化劑。 其它,透明膜,亦可使其具有:相位差膜之機能、亮度提高膜之機能、反射膜之機能、半透過反射膜之機能、擴散膜之機能、光學補償膜之機能等,光學性機能。此時,例如在透明膜之表面,藉由將相位差膜、亮度提高膜、反射膜、半透過反射膜、擴散膜、光學補償膜等光學機能性膜積層,除了使其具有此類機能之外,亦對透明膜本身賦予此類機能。此外,亦可如具有亮度提高膜之機能的擴散膜等,使透明膜具有複數種機能。 例如,在上述透明膜上,藉由施加如日本專利第2841377號公報、日本專利第3094113號公報等所記載之延伸處理,或如日本專利第3168850號公報中所記載之處理而實施,即可賦予相位差膜之機能。相位差膜中之相位差特性,可在如:正面相位差值5至100nm、厚度方向相位差值40至300nm之範圍等加以適當地選擇。同時,亦可在上述之透明膜上,以如日本特開2002-169025號公報及日本特開2003-29030號公報中所記載之方法形成微細孔,或以選擇反射之中心波長不同的2層以上之膽固醇型液晶層進行重疊,即可賦予亮度提高膜之機能。 上述之透明膜上再以蒸塗或濺塗等形成金屬薄膜時,即可賦予反射膜或半透過反射膜之機能。上述之透明膜上再以含微粒之樹脂溶液塗布時,即可賦予擴散膜之機能。同時,上述之透明膜上又再以盤形液晶性化合物等液晶性化合物塗布使其定向時,即可賦予光學補償膜機能。此外,透明膜上亦可含有使相位差顯現之化合物。另外,亦可再以適當之接著劑,使各種光學機能性膜直接貼合偏光膜。光學機能性膜之市售品,可舉如:DBEF(3M公司製造,日本可由住友3M公司取得)等之亮度提高膜、WV膜(日本富士軟片公司製造)等之視角改良膜、ARTON膜(日本JSR公司製造)、ZEONOR膜(Optes公司製造)、S-SINA(日本積水化學工業公司製造)、VA-TAC(日本Konica-Minolta Opto公司製造)、Sumikalite(日本住友化學公司製造)等之相位差膜等。 (活性能量線硬化型接著劑) 偏光膜與透明膜,可介由活性能量線硬化型之接著劑貼合。活性能量線硬化型之接著劑,由耐候性及折射率、陽離子聚合性等之觀點方面,可舉如:以含有經活性能量線照射而硬化之環氧樹脂的環氧系樹脂組成物所構成之接著劑。惟亦不限定於此,而可使用歷來在偏光板之製造上所使用之各種活性能量線硬化型之接著劑(有機溶劑系接著劑、熱熔系接著劑、無溶劑型接著劑等),如:丙烯醯胺、丙烯酸酯、丙烯酸聚胺酯、丙烯酸環氧酯等丙烯酸系樹脂組成物所構成之接著劑等均可採用。 環氧樹脂,指分子內含2個以上環氧基的化合物之意。由耐候性、折射率、陽離子聚合性等之觀點方面,接著劑之硬化性環氧樹脂組成物中所含之環氧樹脂,以分子內不含芳環之環氧樹脂(可參照如專利文獻1)為佳。此類環氧樹脂之例,可舉如:氫化環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂族環氧樹脂等。 氫化環氧樹脂,可將芳族環氧樹脂之原料的多羥基化合物在催化劑之存在下,以加壓下之選擇性核氫化反應所得之核氫化多羥化合物經環氧丙基醚化之方法即可得到。芳族環氧樹脂之例,可舉如:雙酚A之二環氧丙基醚、雙酚F之二環氧丙基醚、及雙酚S之二環氧丙基醚等雙酚型環氧樹脂;酚型酚醛清漆環氧樹脂、甲酚型酚醛清漆環氧樹脂、及羥苯基醛酚型酚醛清漆環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂;四羥苯基甲烷之環氧丙基醚、四羥基二苯甲酮之環氧丙基醚、及環氧化聚乙烯基酚等多官能型的環氧樹脂等。氫化環氧樹脂中,以氫化的雙酚A之環氧丙基醚較佳。 脂環式環氧樹脂,係指分子內具有1個以上鍵結在脂環式環之環氧基的環氧樹脂之意。「鍵結在脂環式環之環氧基」,係指下式所示構造中的交聯之氧原子-O-之意。下式中,m為2至5之整數。 以將上述式中(CH2)m中之1個或多個氫原子去除之形態之基鍵結在其它之化學構造上的化合物,即可得到脂環式環氧樹脂。(CH2)m中之1個或多個之氫原子,亦可以甲基及乙基等之直鏈烷基適當地取代。脂環式環氧樹脂之中,具有氧基雙環己烷環(係上述式中m=3者)、及氧基雙環庚烷環(係上述式中m=4者)之環氧樹脂,可顯示優良之接著性因此使用上更佳。以下,再舉使用上更佳之脂環式環氧樹脂之具體例,但並不限定於此等化合物。 (a)下式(I)所示之環氧環己烷羧酸環氧環己基甲酯類: (式中,R1及R2,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) (b)下式(Ⅱ)所示之烷二醇之環氧環己烷羧酸酯類: (式中,R3及R4,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基,n表示2至20之整數。) (c)下式(Ⅲ)所示之二羧酸之環氧環己基甲酯類: (式中,R5及R6,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基,p表示2至20之整數。) (d)下式(Ⅳ)所示之聚乙二醇之環氧環己基甲醚類: (式中,R7及R8,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基,q表示2至10之整數。) (e)下式(V)所示之烷二醇之之環氧環己基甲醚類: (式中,R9及R10,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基,r表示2至20之整數。) (f)下式(Ⅵ)所示之二環氧三螺化合物: (式中,R11及R12,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) (g)下式(Ⅶ)所示之二環氧單螺化合物: (式中,R13及R14,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) (h)下式(Ⅷ)所示之二環氧乙烯基環己烯類: (式中,R15表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) (i)下式(Ⅸ)所示之環氧環戊醚類: (式中,R16及R17,互為獨立,表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) (j)下式(X)所示之二環氧三環癸烷類: (式中,R18表示氫原子或碳數1至5之直鏈烷基。) 上述例示之脂環式環氧樹脂當中,以下之脂環式環氧樹脂,由於已商品化、或為其類似物、取得較為容易等之理由,在使用上更佳。 (A)7-氧雜二環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與(7-氧雜二環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[式(I)中,R1=R2=H之化合物]、(B)4-甲基-7-氧雜二環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與(4-甲基-7-氧雜二環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[式(I)中,R1=4-CH3,R2=4-CH3之化合物]、(C)7-氧雜二環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與1,2-乙烷二醇之酯化物[式(Ⅱ)中,R3=R4=H,n=2之化合物]、(D)(7-氧雜二環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[式(Ⅲ)中,R5=R6=H,p=4之化合物]、(E)(4-甲基-7-氧雜二環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[式(Ⅲ)中,R5=4-CH3,R6=4-CH3,p=4之化合物]、(F)(7-氧雜二環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與1,2-乙烷二醇之醚化物[式(V)中,R9=R10=H,r=2之化合物]。 又,脂族環氧樹脂,可舉如脂族多元醇或其環氧烷加成物之聚環氧丙醚。更具體地,可例舉如:1,4-丁烷二醇之二環氧丙醚;1,6-己烷二醇之二環氧丙醚;丙三醇之三環氧丙醚;三羥甲基丙烷之三環氧丙醚;聚乙二醇之二環氧丙醚;丙二醇之二環氧丙醚;乙二醇、丙二醇、及丙三醇等脂族多元醇以1種或2種以上之環氧烷(環氧乙烷及環氧丙烷)加成所得之聚醚多元醇之聚環氧丙醚等。 構成包含環氧系樹脂組成物之接著劑的環氧樹脂,可單獨使用1種亦可將2種以上併用。該組成物中所使用之環氧樹脂的環氧基當量,一般在30至3,000g/當量,以50至1,500g/當量之範圍內為佳。環氧基當量低於30g/當量時,即有硬化後之複合偏光板的撓性降低,或接著強度減低之情形。另一方面,在其超過3,000g/當量時,會有與接著劑中所含之其它成分的互溶性減低之情形。 該接著劑中,由反應性之觀點方面,作為環氧樹脂之硬化反應係以陽離子聚合為適用。因此,活性能量線硬化型之接著劑的硬化性環氧樹脂組成物中,以調配陽離子聚合起始劑為佳。陽離子聚合起始劑,係以可見光、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射產生陽離子種或路易斯酸,而使環氧基之聚合反應開始。以下,以活性能量線之照射產生陽離子種或路易斯酸,而使環氧基之聚合反應開始之陽離子聚合起始劑稱為「光陽離子聚合起始劑」。 使用光陽離子聚合起始劑,以活性能量線之照射使接著劑進行硬化之方法,可在常溫下硬化,因此對偏光膜之耐熱性或減少需因膨脹而歪斜之考量,且在膜間可良好地接著之點方面亦為有利。同時,光陽離子聚合起始劑係以光作為催化劑作用,因此在環氧樹脂中混合亦可使其保存安定性及作業性更佳。 光陽離子聚合起始劑,可舉如:芳族重氮鹽;芳族錪鹽及芳族鋶鹽等鎓鹽;鐵-芳烴錯合物等。 芳族重氮鹽之例,可舉如:六氟銻酸苯重氮鎓、六氟磷酸苯重氮鎓、六氟硼酸苯重氮鎓等。同時,芳族錪鹽之例,可舉如:四(五氟苯基)硼酸二苯錪、六氟磷酸二苯錪、六氟銻酸二苯錪、六氟磷酸二(4-壬苯基)錪等。 芳族鋶鹽之例,可舉如:六氟磷酸三苯鋶、六氟銻酸三苯鋶、四(五氟苯基)硼酸三苯鋶、二(六氟磷酸)4,4’-二(二苯二氫硫基)二苯化硫、二(六氟銻酸)4,4’-二[二(β-羥乙氧基)苯二氫硫基]二苯化硫、二(六氟磷酸)4,4’-二[二(β-羥乙氧基)苯二氫硫基]二苯化硫、六氟銻酸7-[二(對甲苯甲醯基)二氫硫基]-2-異丙基硫雜蒽酮(thioxanthone)、四(五氟苯基)硼酸7-[二(對甲苯甲醯基)二氫硫基]-2-異丙基硫雜蒽酮、六氟磷酸4-苯羰基-4’-二苯二氫硫基-二苯化硫、六氟銻酸-4-(對第三丁苯羰基)-4’-二苯二氫硫基-二苯化硫、四(五氟苯基)硼酸4-(對第三丁苯羰基)-4’-二(對甲苯甲醯基)二氫硫基-二苯化硫等。 鐵-芳烴錯合物之例,可舉如:六氟銻酸二甲苯-環戊二烯亞鐵(Ⅱ)、六氟磷酸異丙苯-環戊二烯亞鐵(Ⅱ)、二甲苯-環戊二烯亞鐵(Ⅱ)-三(三氟甲硫醯)甲烷化物等。 此類光陽離子聚合起始劑之市售品,可容易地取得,如各商品名為:「KAYARAD PCI-220」及「KAYARAD PCI-620」(以上均為日本化藥公司製造)、「UVI-6990」(Union-Carbide公司製造)、「Adekaoptomer SP-150」及「Adekaoptomer SP-170」(以上均為日本ADEKA公司製造)、「CI-5102」、「CIT-1370」、「CIT-1682」、「CIP-1866S」、「CIP-2048S」及「CIP-2064S」(以上均為日本曹達公司製造)、「DPI-101」、「DPI-102」、「DPI-103」、「DPI-105」、「MPI-103」、「MPI-105」、「BBI-101」、「BBI-102」、「BBI-103」、「BBI-105」、「TPS-101」、「TPS-102」、「TPS-103」、「TPS-105」、「MDS-103」、「MDS-105」、「DTS-102」及「DTS-103」(以上均為日本綠化學公司製造)、「PI-2074」(Rhodia公司製造)等。 光陽離子聚合起始劑,可只以1種單獨使用亦可以2種以上混合使用。其中,芳族鋶鹽,即使在300nm以上之波長領域中亦具有紫外線吸收特性,因此可得到硬化性優異、具有良好之機械強度及接著強度的硬化物,因而適用。 光陽離子聚合起始劑之調配量,相對於環氧樹脂100重量份,一般為0.5至20重量份,以1重量份以上為佳,15重量份以下更佳。光陽離子聚合起始劑之調配量,相對於環氧樹脂100重量份在低於0.5重量份時,會使硬化不完全、而有機械強度及接著強度減低之傾向。同時,光陽離子聚合起始劑之調配量,相對於環氧樹脂100重量份在超過20重量份時,因硬化物中之離子性物質增加而提高硬化物之吸濕性,而有耐久性能降低之情形。 在使用光陽離子聚合起始劑時,硬化性環氧樹脂組成物,亦可依照其必要,再含光敏劑。在使用光敏劑時,可提高陽離子聚合之反應性而增加硬化物之機械強度及接著強度。光敏劑之例,可舉如:羰化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物、光還原性色素等。 光敏劑更具體之例,可舉如:苯偶姻甲醚、苯偶姻異丙醚、及α,α-二甲氧基-α-苯基乙醯苯等之苯偶姻衍生物;二苯甲酮、2,4-二氯二苯甲酮、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4,4’-二(二甲胺基)二苯甲酮、及4,4’-二(二乙胺基)二苯甲酮等二苯甲酮衍生物;2-氯硫雜蒽酮、及2-異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮衍生物;2-氯蒽醌、及2-甲基蒽醌等蒽醌衍生物;N-甲基吖啶酮、及N-丁基吖啶酮等吖啶酮衍生物;其它,α,α-二乙氧基乙醯苯、二苯基乙二酮、茀酮、氧雜蒽酮、鈾醯化合物、鹵素化合物等。光敏劑,可只以1種單獨使用,亦可以2種以上併用。光敏劑,在硬化性環氧樹脂組成物100重量份中,所含範圍以0.1至20重量份內者為佳。 接著劑中所含之環氧樹脂,可以光陽離子聚合使其硬化,亦可以光陽離子聚合及熱陽離子聚合之雙方使其硬化。為後者時,以光陽離子聚合起始劑與熱陽離子聚合起始劑之併用者為佳。 熱陽離子聚合起始劑之例,可舉如:苯甲基鋶鹽、噻吩鹽、四氫噻吩鹽、苯甲基銨、吡啶鎓鹽、肼鹽、羧酸酯、磺酸酯、胺醯亞胺等。此等熱陽離子聚合起始劑,其市售品可容易地取得,如均為商品名之:「Adekaopton CP77」及「Adekaopton CP66」(以上均為ADEKA公司製造)、「CI-2639」及「CI-2624」(以上均為日本曹達公司製造)、「San-Aid SI-60L」、「San-Aid SI-80L」及「San-Aid SI-100L」(以上均為日本三新化學工業公司製造)等。 活性能量線硬化型之接著劑,亦可再含氧環丁烷類及多元醇類等之促進陽離子聚合之化合物。 氧環丁烷類,係分子內含4員環醚之化合物,可例舉如:3-乙基-3-羥甲基氧環丁烷、1,4-二[(3-乙基-3-氧環丁基)甲氧甲基]苯、3-乙基-3-(苯氧甲基)氧環丁烷、二[(3-乙基-3-氧環丁烷基)甲基]醚、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧環丁烷、酚型酚醛清漆氧環丁烷等。此等氧環丁烷類,可易於由市售品取得,例如均為商品名之:「ARON OXETANE OXT-101」、「ARON OXETANE OXT-121」、「ARON OXETANE OXT-211」、「ARON OXETANE OXT-221」及「ARON OXETANE OXT-212」(以上均為東亞合成公司製造)等。此等氧環丁烷類,在硬化性環氧樹脂組成物中,一般所含比例為5至95重量%,以30至70重量%為佳。 多元醇類,以不存在酚性羥基以外之酸性基者為佳,可例舉如:不具有羥基以外的官能基之多元醇化合物、聚酯多元醇化合物、聚己內酯多元醇化合物、具有酚性羥基之多元醇化合物、聚碳酸酯多元醇等。該等多元醇類之分子量,一般為48以上,以62以上為佳,100以上更佳,又以1,000以下為佳。該等多元醇類,在硬化性環氧樹脂組成物中,一般所含比例為50重量%以下,以30重量%以下為佳。 活性能量線硬化型之接著劑中,可進一步調配:離子捕獲劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑(tackifier)、熱塑性樹脂、填充劑、流動調節劑、塗平劑、塑化劑、消泡劑等之添加劑。離子捕獲劑之例可舉如:粉末狀之鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系及此等之混合系等無機化合物;抗氧化劑之例可舉如:受阻酚系抗氧化劑等。 活性能量線硬化型之接著劑,可作為本質上不含溶劑成分之無溶劑型接著劑使用,惟各塗布加工方式亦各有最適之黏度範圍,故可含有用以調整黏度之溶劑。溶劑方面,以使用不使偏光膜之光學性能降低、而可良好地溶解環氧樹脂組成物等者為佳,其例如以甲苯為代表之烴類、以乙酸乙酯為代表之酯類等有機溶劑。本發明中使用之活性能量線硬化型之接著劑的黏度,例如可在5至1000mPa‧s左右之範圍,以10至200mPa‧s為佳,20至100mPa‧s更佳。 <偏光板之製造方法> 其次參照圖式並同時說明本發明之偏光板的製造裝置及製造方法。第1圖表示本發明之偏光板的製造方法中所使用的製造裝置之一實施形態的概略圖。 第1圖中所示之偏光板的製造裝置,係沿著運送方向而依序設置下述者:在透明膜2、3之單面用以塗布接著劑之接著劑塗布裝置11、12、及使透明膜2、3與偏光膜1貼合以得到積層體4用之貼合滾輪(軋輥)51、52、及使積層體4密接用之滾輪13、及在該滾輪13之外周面之相對位置所設置的第1活性能量線照射裝置31、32、以及在較運送方向下游側所設置的第2活性能量線照射裝置16至18、及運送用軋輥19。 首先,在以捲成輪狀之狀態連續地送出之透明膜2、3的單面上,藉由接著劑塗布裝置11、12使活性能量線硬化型之接著劑塗布(接著劑塗布步驟)。 接著,在以捲成輪狀之狀態連續地送出之偏光膜1的兩面上,使塗布有接著劑之透明膜2、3介由接著劑而積層之積層體,以在向運送方向旋轉之一對貼合滾輪51、52之間在壓夾的狀態下,使至少一方之貼合滾輪在另一方之貼合滾輪的方向擠壓而在積層體上施加壓力,使偏光膜1與透明膜2、3貼合,而形成積層體4(貼合步驟)。 其次,在使該積層體4在滾輪13之外周面密接之同時運送之過程中,再由第1活性能量線照射裝置31、32向滾輪13之外周面照射活性能量線,使接著劑聚合硬化(第1活性能量線照射步驟)。 又,在運送方向下游側所配置的第2活性能量線照射裝置16至18,係使接著劑完全聚合硬化(第2活性能量線照射步驟)用之裝置,此亦可依照必要追加/省略,惟因第2活性能量線照射步驟可使接著劑完全地聚合硬化,故在第1活性能量線照射步驟中,接著劑並無一定須有完全地聚合硬化之必要,如此可使波捲之發生受抑制而容易進行活性能量線累積光量之控制,因此以具有第2活性能量線照射步驟者為佳。最終,再使積層體4通過運送用軋輥19,使偏光板由捲繞滾輪20捲繞。以下,再對各步驟詳細說明。 (接著劑塗布步驟) 接著劑在透明膜2、3之塗布方法並無特別限定,可利用如:刮刀、線棒、壓鑄模、缺角輪(comma)、凹版輥等各種塗布方式。其中,在對薄膜塗布、運送動線之自由度、寬廣度之對應等加以考慮時,接著劑塗布裝置11、12以凹版輥為佳。 在使用凹版輥作為接著劑塗布裝置11、12進行接著劑塗布時,所塗布之接著劑的厚度(塗布厚),以約0.1至10μm為佳,以0.2μm至4μm更佳。接著劑之塗布厚度,可由相對於透明膜動線速度之凹版輥的速度比之拉延比(draw ratio)加以調整。一般言之,在拉延比(凹版輥之速度/動線速度)調整為0.5至10時,即可使接著劑之塗布厚度調整為約0.1至10μm。更具體而言,係將透明膜2、3之動線速度設為10至100m/分鐘,並使凹版輥與透明膜2、3之運送方向為逆向旋轉,凹版輥之速度設為5至1000m/分鐘時,接著劑之塗布厚度可調整為約0.1至10μm。 接著劑,係在調製後,以一般在15至40℃之範圍內以預定之溫度±5℃(如在預定溫度為30℃時,為30℃±5℃),以±3℃為佳,以±1℃更佳而調整之環境下進行塗布。 (貼合步驟) 本步驟中,係在捲成輪狀之狀態連續地送出之偏光膜1的兩面上,使在上述步驟塗布有接著劑之透明膜2、3介由接著劑而積層。該積層體,再以朝運送方向旋轉之一對貼合滾輪51、52之間壓夾的狀態下,例如以貼合滾輪51向貼合滾輪52方向擠壓,使偏光膜1與透明膜2、3貼合而形成積層體4。此時,使其對貼合滾輪之擠壓方向垂直之面成為±3°之範圍內的角度,更好是在±1°之範圍內的角度,特別是使與擠壓方向垂直之面重疊使得偏光膜在貼合滾輪間運送者為佳。如此操作之下,可使偏光膜與透明膜在貼合滾輪之前端接觸而不致有氣泡發生。 第1圖中所示,係在透明膜2、3之單面以接著劑均一地塗布,使透明膜2、3之塗布有接著劑之面與偏光膜1重疊並經由貼合滾輪51、52貼合之方法。 貼合滾輪51、52之材質方面,可例舉如金屬滾輪及橡膠滾輪。而以一對貼合滾輪51、52之一方為金屬滾輪,另一方為橡膠滾輪者為佳。金屬滾輪之母材,可使用各種已知之材質,而以SUS304為佳,其表面再施以鍍鉻處理者更佳。又,橡膠滾輪之材質,並無特別限定,可例舉如:EPDM、NBR、聚胺酯、鈦、矽等。橡膠滾輪之硬度,並無特別限定,一般為60至100°,以85至95°為佳。又,橡膠滾輪之硬度,可依JISK 6253之硬度計測定。市售之硬度計,可使用如日本Aska公司製造之橡膠硬度計「Type-A」等。具體之操作,係在表面以棒狀物觸壓時,對橡膠滾輪表面之抗力以硬度計加以測定。 金屬滾輪及橡膠滾輪之觸壓壓力,以在日本富士軟片公司製造之二葉式承載箱(two-sheet type press case)(超低壓用)中之瞬間壓力以0.5至3.0MPa為佳,以0.7至2.3MPa更佳。貼合滾輪51、52之直徑,並無特別限定,一般為50至400nm。又,二具之(一對之)貼合滾輪51、52之直徑,可相同,亦可不同。 (第1活性能量線照射步驟) 滾輪13,其外周面係具有預定之表面粗糙度的突出曲面所構成,而其表面在積層體4密接之同時進行運送,並在該過程中以活性能量線照射裝置31、32使接著劑聚合硬化。在使接著劑聚合硬化,使積層體4充分密接時,滾輪13之直徑並無特別限定。滾輪13,係因應動線速度之旋轉速度使旋轉作動,而在上述橡膠滾輪之旋轉速度為100時,係以100.1以上且為102.0以下者為佳。同時,滾輪13,在以活性能量線之照射使其聚合硬化時,亦可作為使積層體4產生之熱散熱的冷卻滾輪作用。此時,冷卻滾輪的表面溫度,以設定在4至30℃者為佳。 滾輪13之外周面,表面粗糙度之最大高度Ry以0.4至12S為佳,0.8至6.0S更佳。滾輪13之外周面,亦可以噴砂處理加以研磨而形成預定之粗糙度。在表面粗糙度之最大高度Ry未達0.4S時,會有偏光板之表面發生如波浪之波浪板狀起伏的情形。另一方面,在表面粗糙度之最大高度Ry超過12S時,會有滾輪13之外周面的凹凸形狀轉印在偏光板表面之虞慮。又,本發明中之表面粗糙度的最大高度Ry,係使用JIS B0601-1994中所規定之值。 以活性能量線照射進行接著劑之聚合硬化所使用之光源,並無特別限定,惟以波長400nm以下具有發光分布的光源為佳。此種光源之例,可舉如:低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈(chemical lamp)、黑光燈(black light lamp)、微波激發汞燈、金屬鹵素燈。第1活性能量線照射步驟中的活性能量線之照射以分為多次進行為佳。第1圖中係呈示活性能量線之照射分為2次進行,亦即沿積層體之運送方向配置2個光源(活性能量線照射裝置31及32)時之情形,惟並不限定為2次,如分為3次進行亦可。 對活性能量線硬化型接著劑之各次的光照射強度,係由接著劑之各組成所決定,並無特別限定,惟以10至5000 mW/cm2較佳。對樹脂組成物之光照射強度未達10mW/cm2時,反應時間將會過長,其超過5000mW/cm2時,由光源所輻射之熱及組成物聚合時之發熱,會有接著劑之構成材料的環氧樹脂組成物等變黃及偏光膜老化發生的情形。又,照射強度,係以在光陽離子聚合起始劑之活化上有效的波長範圍下之強度為佳,以波長400nm以下的波長範圍下之強度更佳,以波長280至320nm之波長範圍下之強度又更佳。 活性能量線係紫外線時,積層體4在活性能量線照射步驟中,在積層體4向長度方向(運送方向)以100至800N/m之張力施加之同時,以照射時間成為0.1秒以上的動線速度運送積層體4者為佳。 (第2活性能量線照射步驟) 在以活性能量線照射裝置31、32之活性能量線累積光量不足時,以再設置第2以下之活性能量線照射裝置16至18,並追加照射活性能量線而促進積層體4之接著劑的硬化者為佳。加上第1活性能量線照射步驟之全體步驟中的累積光量宜設為10mJ/cm2以上,以設為10至5,000mJ/cm2者為佳。對上述接著劑之累積光量未達10mJ/cm2時,源自起始劑之活性種的發生並不充分,而會使接著劑之硬化不足。另一方面在該累積光量超過5,000mJ/cm2時,會使照射時間變的過長,而不利於生產性的改善。此時,依照使用之膜及接著劑種類之組合等,在何種波長領域(UVA(320至390nm)及UVB(280至320nm)等)中之累積光量是否必要並不相同。 為使偏光板(積層體)端部的接著劑之硬化確實進行,可列舉如:無電極D燈泡之日本FUSION公司製造之「Light Hammer 10」以相對膜之進行為橫斷排列之方法等。 活性能量線硬化型樹脂硬化之比例,即其反應率,以90%以上為佳,95%以上更佳。 (偏光板捲繞步驟) 積層體(偏光板)4之捲繞張力係30N/cm2至150N/cm2。而以30N/cm2至120N/cm2為佳。未達30N/cm2時,在運送長條之捲膜時,會使捲偏發生因此不佳。在大於150N/cm2時,因捲繞過緊,而容易發生鬆弛。 又,其捲長越長時,在同一張力下愈容易發生捲繞過緊(捲出時難以回復到平坦狀態之現象),因此可將偏光板對捲芯捲繞之同時,連續地或階段性地使張力減弱。在以此種所謂尖減之操作使張力減低之方法中,其間之張力係在150N/cm2以下。 在捲芯上捲繞之偏光板的長度,並無特別限定,而以100m以上4000m以下為佳。 圓筒狀捲芯的直徑,以6吋(inch)至12吋為佳。捲芯的直徑以越大越佳,以11吋、12吋等更佳,過大時將難以運送及保管。 圓筒狀捲芯之材質,由於係在無塵室中使用,故其本身並不易發塵,因此只要可確保使寬幅之偏光板捲繞的適當強度即可,並無特別限定,可選擇FRP(玻璃纖維強化塑膠)等。 實施例 以下列舉實施例,進一步地詳細說明本發明,惟本發明並不受此等實施例之限定。 [實施例1] (偏光膜之製作) 聚乙烯醇之胚膜,係使用聚合度2400、皂化度99.9莫耳%、厚度75μm、寬度3000mm之長版的聚乙烯醇膜「OPL膜M-7500(日本合成公司製造)」。延伸,係以處理槽前後之驅動軋輥予其以轉速差進行。 首先,使胚膜不鬆弛之方式,將膜保持在伸緊狀態之下,於裝有30℃的純水之膨潤槽中浸漬80秒鐘,使膜充分膨潤。並在膨潤槽中膨潤之同時使入口及出口之滾輪速度比為1.2。以軋輥進行拂水之後,再於裝有30℃的純水之水浸漬槽中浸漬160秒鐘。並使該槽中的機械方向之延伸倍率為1.09倍。 其次,再於裝有碘/碘化鉀/水之重量比為0.02/2.0/100之水溶液的染色槽中浸漬,同時以延伸倍率約為1.5倍進行單軸延伸。之後,又於裝有碘化鉀/硼酸/水之重量比為12/3.7/100之水溶液的硼酸槽中在55.5℃下浸漬130秒鐘,同時由胚膜至累積延伸倍率成為5.7倍為止進行單軸延伸。之後,再於裝有碘化鉀/硼酸/水之重量比為9/2.4/100之水溶液的硼酸槽中在40℃下浸漬60秒鐘。 之後,又再於水洗槽中以8℃之純水洗淨約16秒鐘,其後,再使其先以約60℃之乾燥爐、其次以約85℃之乾燥爐之順序通過,使其在乾燥爐之滯留時間合計為160秒鐘進行乾燥。以此操作,即可得到以碘吸附定向的厚度為28μm之偏光膜。 (偏光板之製作) 透明膜方面,先準備厚度60μm及50μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」(日本Zeon公司製造)。 其次,在上述厚度60μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」之單面上,將紫外線硬化型之接著劑的環氧樹脂組成物「KR系列」(ADEKA公司製造)以接著劑塗布裝置(Micro Chamber Doctor:富士機械公司製造)進行塗布。同時,又再於上述厚度50μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」之單面上,將紫外線硬化型之接著劑的環氧樹脂組成物「KR系列」(ADEKA公司製造)以相同之接著劑塗布裝置進行塗布。其間,以接著劑塗布裝置中的偏光膜積層體之動線速度為25m/分鐘,使凹版輥以與積層材運送方向之反方向旋轉,使厚度60μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」上的接著劑層之厚度為約3.5μm,厚度50μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」上的接著劑層之厚度為約3.5μm(合計約7.0μm)。 其次,於上述偏光膜之兩面上,將上述厚度60μm及厚度50μm之環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」,介由上述環氧樹脂組成物(紫外線硬化型接著劑),藉由軋輥貼合。 以上述2種透明膜所貼合之偏光膜,在長度方向施加600N/m之張力使其與冷卻滾輪密接,同時以動線速度25m/分鐘運送,使其由金屬鹵素燈2座(GS-YUASA公司製造,1座之電力為120W/cm)所照射之紫外線中通過進行第1活性能量線照射步驟,再由其後設置之無電極D燈泡1座(Fusion公司製造「Light Hammer 10」,1座之電力為216W/cm)所照射之紫外線中通過進行第2活性能量線照射步驟而進行偏光板之製作。 上述無電極D燈泡1座,係向膜之寬度方向以無電極D燈泡6台排列所構成之單元,係向膜之長度方向成1列配置者。 在通過金屬鹵素燈時,將貼合在上述偏光膜之厚度50μm的環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」,使與設定為23℃之冷卻滾輪的外周面接觸,並由厚度60μm的環烯烴系樹脂膜「ZEONOR」側以紫外線照射。以此操作,因在第1活性能量線照射步驟中的熱之影響使接著劑及偏光膜的劣化受到抑制。冷卻滾輪外周面的表面粗糙度再以表面粗糙度測定器(商品名HANDY-SURF E-35B,日本東京精密公司製造)測定之結果,表面粗糙度之最大高度Ry為0.8S。 (偏光板之表面評定) 實施例1之偏光板的表面以目視評定之結果,並未觀察到波浪板狀起伏。其結果如表1所示。 [實施例2] 本實施例中,冷卻滾輪外周面的表面粗糙度以表面粗糙度測定器(商品名:HANDY-SURF E-35B,東京精密公司製造)測定之結果,表面粗糙度之最大高度Ry為4.0S。除此之外,係以與實施例1同樣地操作製作成實施例2之偏光板。 (偏光板之表面評定) 實施例2之偏光板的表面以目視評定之結果,並未觀察到波浪板狀起伏。其結果如表1所示。 [實施例3] 本實施例中,冷卻滾輪外周面的表面粗糙度以表面粗糙度測定器(商品名:HANDY-SURF E-35B,日本東京精密公司製造)測定之結果,表面粗糙度之最大高度Ry為10.0S。除此之外,以與實施例1同樣地操作製作成偏光板。 (偏光板之表面評定) 該偏光板的表面以目視評定之結果,並未觀察到波浪板狀起伏。其結果如表1所示。 [比較例1] 本比較例中,冷卻滾輪外周面的表面粗糙度以表面粗糙度測定器(商品名:HANDY-SURF E-35B,日本東京精密公司製造)測定之結果,表面粗糙度之最大高度Ry為0.2S。除此之外,以與實施例1同樣地操作製作成比較例1之偏光板。 (偏光板之表面評定) 比較例1之偏光板的表面以目視評定之結果,可觀察到波浪板狀起伏。其結果如表1所示。 以上之結果,可知在第1活性能量線照射步驟中所使用之滾輪的表面粗糙度之最大高度Ry為0.4至12S,因此使表面不良之發生得以防止。 (產業上之可利用性) 本發明之偏光板,可有效地使用在以液晶顯示裝置為代表之各種顯示裝置中。 1‧‧‧偏光膜 2、3‧‧‧透明膜 4‧‧‧積層體(偏光板) 11、12‧‧‧接著劑塗布裝置 13‧‧‧滾輪(冷卻滾輪) 16、17、18、31、32‧‧‧活性能量線照射裝置 19‧‧‧運送用軋輥 20‧‧‧捲繞滾輪 51、52‧‧‧貼合滾輪
权利要求:
Claims (2) [1] 一種偏光板的製造方法,係在偏光膜之單面或兩面貼合透明膜而成之偏光板的製造方法,其依序具備下述步驟:在前述透明膜之單面塗布活性能量線硬化型之接著劑的接著劑塗布步驟;對前述透明膜介由前述接著劑積層在前述偏光膜之單面或兩面而成之積層體施加壓力,藉此使前述透明膜與前述偏光膜貼合之貼合步驟;及在使前述積層體與朝運送方向旋轉之滾輪成密接之狀態下予以運送之間,在前述積層體上照射活性能量線使前述接著劑硬化之第1活性能量線照射步驟,其中,上述滾輪的表面粗糙度之最大高度Ry為0.4至12S。 [2] 如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法,其中,前述滾輪為冷卻滾輪。
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